Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (29) 334-42-06
Корзина

Линейная установка плазменной очистки Han’s Laser P-500

Линейная установка плазменной очистки Han’s Laser P-500
Линейная установка плазменной очистки Han’s Laser P-500, фото 2

Цену уточняйте

  • Под заказ
Линейная установка плазменной очистки Han’s Laser P-500
Линейная установка плазменной очистки Han’s Laser P-500Под заказ
Цену уточняйте
+375 (29) 334-42-06
+375 (29) 334-42-06
  • График работы
  • Адрес и контакты
  • Производитель и гарантия

Описание:

Установки плазменной очистки, производимые Han’s Laser, делятся на два типа: вакуумные и встраиваемые в  производственную линию. Станки для работы на производственной линии в зависимости от используемого газа делятся на азотные и аргонные, в зависимости от занимаемой площади – на  точечные и линейные. 

Главная особенность установки плазменной очистки состоит в том, что она может обрабатывать любой материал: стекло, металлы, полупроводники, оксиды и большинство видов полимерных материалов, например,  полипропилен, полиэфир, полиимид, поливинилхлорид, эпоксидная смола и даже политетрафторэтиле. Также может осуществлять комплексную, частичную очистку и очистку изделий со сложной конструкцией.  

К активным элементам плазмы (ионизованного газа) относятся ионы, электроны, активная группа, нуклеин (метастабильный), фотоны.  Обработка поверхностей плазменным методом осуществляется за счет данных активных частиц для выполнения таких задач, как очистка, модифицирование, озоление фоторезиста и т.д. 

 

Технические характеристики:

Вакуумная камера, габариты (Ш×В×Г)

Нержавеющая сталь, 500×650×700мм

Габариты установки (Ш×В×Г)

1855×1137×1251мм

Эффективная ширина обработки

20-5000мм

Источник питания

AC 220V, однофазный 50 ~ 60 Гц ~ 10 А

Используемый газ

Аргон (Ar) / азот (N2);

Способ охлаждения

Воздушное охлаждение, водяное охлаждение

Максимальная мощность

0 ~ 6000 Вт

Скорость передачи

0 ~ 60 мм / с (асинхронный двигатель)

Диапазон регулировки высоты плазменной головки

0-80мм; Рекомендуемая высота для генерации плазмы: 1 ~ 4 мм;

Способ управления

ПЛК (управление интерфейсом сенсорного экрана)

 

Преимущества:

  • Установки плазменной очистки, использующие технологии 2 или 3 поколения, являются наилучшими, (1-е поколение – сжатый воздух, 2-е поколение - азот, 3-е поколение – аргон) характеризуются лучшей очищающей способностью среди трех видов  установок атмосферной плазменной очистки. Эффект очистки сопоставим с вакуумными установками. 
  • Аргон не дает осадок, не производит статического электричества, очищает без побочных эффектов; азот прост в использовании и обладает хорошим очищающим эффектом;
  • Ультра-низкотемпературное аргоновое плазменное пламя (38 ℃) характеризуется минимальным уровнем термического повреждения, не наносит повреждения OLED-дисплеям и микросхемам, не вызывает активацию дисплея.Температура  азотного плазменного пламени составляет 65 ℃.
  • Напряжение электропитания для аргоновой плазмы составляет 300В. Низкое напряжение  не повреждает материал подложки и проводящую плёнку. Напряжение для азота составляет 2000В, очистка под высоким напряжением приводит  к отслоению микрогранул с поверхности подложки. 
  • Скорость производства высокая и зависит от скорости движения ленты и количества плазменных головок.
Характеристики
Основные
Производитель  Han’s Laser
Страна производительКитай
Информация для заказа
  • Цена: Цену уточняйте