Корзина
Нет отзывов, добавить
+375 (17) 272-24-52
Корзина

Вакуумная установка плазменной очистки Han’s Laser

Вакуумная установка плазменной очистки Han’s Laser

Цену уточняйте

  • Под заказ
Вакуумная установка плазменной очистки Han’s Laser
Вакуумная установка плазменной очистки Han’s LaserПод заказ
Цену уточняйте
+375 (17) 272-24-52
+375 (17) 272-24-52
  • График работы
  • Адрес и контакты
  • Производитель и гарантия

Описание:

Установки плазменной очистки, производимые Han’s Laser, делятся на два типа: вакуумные и встраиваемые в  производственную линию. Станки для работы на производственной линии в зависимости от используемого газа делятся на азотные и аргонные, в зависимости от занимаемой площади – на  точечные и линейные. 

Главная особенность установки плазменной очистки состоит в том, что она может обрабатывать любой материал: стекло, металлы, полупроводники, оксиды и большинство видов полимерных материалов, например, полипропилен, полиэфир, полиимид, поливинилхлорид, эпоксидная смола и даже политетрафторэтилен. Также может осуществлять комплексную, частичную очистку и очистку изделий со сложной конструкцией.  

К активным элементам плазмы (ионизованного газа) относятся ионы, электроны, активная группа, нуклеин (метастабильный), фотоны. Обработка поверхностей плазменным методом осуществляется за счет данных активных частиц для выполнения таких задач, как очистка, модифицирование, озоление фоторезиста и т.д. 

 

Технические характеристики:

Вакуумная камера, габариты (Ш×В×Г)

Нержавеющая сталь, 500×650×700мм

Дверь камеры

Алюминий; откидная дверца со смотровым окном;

Система управления

ПЛК Siemens + сенсорный экран

Частота, мощность генератора плазмы

81.36 мГц; 0-2400 Вт

Вакуумметр

Отображение давления внутри камеры в режиме реального времени

Измеритель расхода

Поплавковый расходомер

Габариты установки (Ш×В×Г)

1500×1700×1300мм

Внешний источник питания

380В; 50Гц

Количество электродных слоев

В соответствии с требованиями

 

Преимущества вакуумной установки плазменной очистки:

  • Используется радиочастотный генератор 81.36мГц; в вакуумных установках плазменной очистки обычно используются радиочастотные генераторы на 40 кГц или 13.56мГц для гибких печатных плит, печатных плат, мобильных телефонов. 
  • Равномерное излучение плазмы, тщательная очистка и полное удаление клея без остатка;
  • Высокая плотность плазмы, эффективность производства выше в два раза по сравнению с традиционной плазмой;
  • Высокая степень очистки обрабатываемых материалов;
  • Продукция, обработанная данной установкой, имеет более длительный срок хранения. 
  • Температура плазмы составляет ≤38°, не приводит к изменению цвета печатаных плат и аналогичных изделий при обработке.
  • Напряжение источника плазмы составляет до 500 В, не возгорается и не повреждает печатные платы; 
  • Процент небракованной продукции значительно выше при обработке посредством данной установки; 
  • В данной установке низкое напряжение и пониженная мощность, поэтому она абсолютно безопасна в эксплуатации
Характеристики
Основные
Производитель  Han’s Laser
Страна производительКитай
Информация для заказа
  • Цена: Цену уточняйте